Система ультраочищеної води для фотоелектричних установок спеціально розроблена, щоб відповідати суворим вимогам до якості води для виробництва фотоелектричної (PV) промисловості. Процеси фотоелектричного виробництва, як-от очищення пластин, виготовлення сонячних елементів і складання модулів, потребують надчистої води (UPW), щоб забезпечити високо-якісні, ефективні та надійні сонячні панелі. У цій вдосконаленій системі очищення використовується комбінація технологій зворотного осмосу (RO) та електродеіонізації (EDI) для отримання води з питомим опором понад 18,2 МОм·см, що є важливим для усунення забруднень, які можуть вплинути на продуктивність і довговічність сонячних панелей.
Ключові характеристики
Виробництво-чистої води:
The system produces ultrapure water with resistivity levels >18,2 МОм·см, що відповідає строгим стандартам, необхідним для процесів виробництва фотоелектричних елементів, таких як очищення кремнієвих пластин, промивання фотоелектричних елементів і виготовлення високо-ефективних сонячних панелей.
Дво-процес очищення:
Зворотний осмос (RO): на першому етапі очищення використовуються мембрани RO, які видаляють до 99% розчинених солей, органіки та частинок, забезпечуючи значне зниження загального вмісту розчинених твердих речовин (TDS).
Електродеіонізація (EDI): Другий етап використовує технологію EDI для подальшої деіонізації води. EDI використовує іонообмінні-смоли та електричне поле для видалення будь-яких залишкових іонів, забезпечуючи виробництво високо-чистої води без використання хімікатів.
Регенерація-без хімікатів:
Технологія EDI регенерує іонообмінні-смоли за допомогою електрики, усуваючи потребу в хімічній регенерації. Це робить систему -дружньою до навколишнього середовища, зменшуючи як хімічні відходи, так і експлуатаційні витрати, пов’язані з обробкою та утилізацією хімікатів.
Фільтри остаточного полірування:
Система може включати полірувальні фільтри, щоб гарантувати, що кінцева вода, що виходить, вільна від будь-яких забруднень, що залишилися, таких як мікроорганізми, органічні сполуки та дрібні частки, які можуть вплинути на процеси очищення та виробництва фотоелектричних пристроїв.
Постійний моніторинг якості води:
Система оснащена -моніторингом критичних параметрів якості води в режимі реального часу, таких як питомий опір, загальний вміст органічного вуглецю (TOC), кремнезем і рівні частинок. Автоматичні датчики гарантують, що вода постійно відповідає стандартам чистоти, необхідним для процесу виробництва фотоелектричної системи.
Застосування у фотоелектричному виробництві
1. Очищення вафель:
Надчиста вода необхідна для очищення кремнієвих пластин, які є основою сонячних елементів. Вода не повинна містити забруднювачів, які можуть заважати виробництву високо-ефективних фотоелектричних елементів.
2. Виготовлення сонячних батарей:
Під час виготовлення сонячних елементів ультрачиста вода використовується для промивання елементів і видалення будь-яких хімічних речовин або твердих частинок, які можуть погіршити їхню продуктивність.
3. Збірка модуля:
Вода використовується в процесі складання сонячних панелей, щоб гарантувати, що модулі чисті й вільні від будь-яких забруднень, які можуть вплинути на їх -тривалу ефективність і довговічність.
4. Хімічна промивка:
Після певних хімічних обробок (наприклад, травлення або легування) надчиста вода використовується для промивання та нейтралізації поверхонь, гарантуючи відсутність шкідливих залишків на кінцевих продуктах.
Переваги системи ультраочищеної води для фотоелектричних установок
Високоякісна-вода для-високоефективних панелей:
Надчиста вода, яку виробляє ця система, гарантує, що кожен етап процесу виробництва фотоелектричної енергії не містить забруднюючих речовин, що є критично важливим для виробництва високо-ефективних довговічних сонячних панелей.
Знижений ризик зараження:
Система ефективно видаляє тверді частинки, органічні речовини та мікроорганізми, які можуть заважати процесу виробництва фотоелектричної енергії, знижуючи ризик дефектів сонячних елементів і панелей.
Екологічно чистий:
Регенерація-без хімікатів у процесі EDI гарантує, що система екологічно відповідальна, зменшуючи потребу у шкідливих хімікатах і мінімізуючи утворення стічних вод.
Низькі експлуатаційні витрати:
Усунення використання хімікатів на етапі EDI в поєднанні з низьким рівнем обслуговування та високо-ефективною фільтрацією призводить до зниження експлуатаційних витрат порівняно з традиційними системами очищення води, які покладаються на хімічну обробку.
Масштабованість і налаштування:
Систему можна масштабувати, щоб задовольнити різноманітні потреби у воді фотоелектричних установок різного-розміру, від малих-виробництв до великих-об’єктів. Його можна налаштувати відповідно до конкретних потреб виробництва.
Технічні характеристики
|
Питомий опір |
>18,2 МОм·см |
|
TDS (Загальна кількість розчинених твердих речовин) |
<10-20 ppm |
|
кремнезем |
<0.05 ppm (to prevent scaling and contamination in the PV manufacturing process) |
|
TOC (загальний органічний вуглець) |
<10 ppb |
|
тверді частинки |
<1 ppb |
|
Швидкість потоку |
Налаштовується відповідно до виробничих потреб (як правило, з5 м³/годдо100 м³/год) |
Ця система ультраочищеної води для фотоелектричного виробництва є важливим рішенням для забезпечення найвищої якості води у виробництві сонячних панелей, допомагаючи виробникам досягти високо-продуктивних фотоелектричних елементів, дотримуючись екологічних-цілей та економічності. Незалежно від того, чи використовується ця система для очищення пластин, виготовлення комірок або складання модулів, ця система забезпечує надійну надчисту воду для підтримки сталого розвитку сонячної енергетики.
Успішні кейси



Популярні Мітки: система ультраочищеної води для фотоелектричних, Китайська система ультраочищеної води для фотоелектричних виробників, постачальників, фабрика
